EDAに使用されるMLモデルの一覧


大まかに4つに分類することができる。

  • 意思決定
  • 性能予測
  • ブラックボックス最適化
  • 自動設計
MLの使い方タスク/活用段階MLアルゴリズムインプットアウトプット参考リンク
意思決定HLS設計空間探索決定木、多項式回帰 などハード指令e.g. 初期状態、終了条件ハイパーパラメータの品質(例:初期状態、終了条件など
ロジック合成DNNRTL記述ワークフローとオプティマイザーの選択
マスク合成CNNレイアウト画像
最適化手法の選択
性能予測アナログトポロジー設計CNN、ファジー などアナログスペック最良トポロジーの選択
HLS線形回帰、SVM、ランダムフォレスト、XGブースト などH LSレポート、ワークロード性質、ハードウェア性質リソース使用、タイミング など
配置とルーティングSVM、CNN、GAN、MARS、ランダムフォレスト などネットリストやレイアウト画像の特徴量ワイヤ長、ルーティング、輻輳 など
物理実装(リソグラフィーホットスポット探知、IR欠落予測)SVM、CNN、XGブースト、GAN などRTL・ゲートレベル記述、技術ライブラリ、物理実装コンフィグリソグラフィーホットスポットの存在、IR欠落、パス遅延バリエーション
検証KNN、ONN、GCN、ルール学習、SVM、CNNテスト仕様セット、低コストスペックブーリアン パス/フェール予測
デバイスサイズ決定ANNデバイスパラメータ制約充足の可能性
ブラックボックス最適化HLS設計空間探索ランダムフォレスト、ガウシアンプロセス、アンサンブルモデル などHLS設計のハード指示品質結果(レイテンシー、エリア など)
3D統合ガウシアンプロセス、NN物理設計コンフィグクロックスキュー、熱性能 など
設計自動化ロジック統合強化学習、GCNロジック関数のゲートレベルDAGエリア、レイテンシー など
配置強化学習、GCNマクロ配置ワイヤ長、輻輳 など
マスク合成GAN、CNN、決定木、辞書学習RTL・ゲートレベル記述、レイアウト画像光学近接補正(OPC)、サブ解像度アシスト機能(SRAF)の生成
デバイスサイズ決定強化学習、GCN、DNN、SVMデバイスパラメータ設計制約の充足性